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Persönliche Daten
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Geburtsort
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Colima, Col., Mexiko

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Ausbildung
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1976 - 1977
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T. J. Connor Elementary School, Schottsville, N.Y., USA
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1977 - 1989
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Deutsche Schule Alexander von Humboldt, Mexiko-Stadt, Mexiko
Abschluß: Abitur, Note: 1,3
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Okt. 1989
- Nov. 1994
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Studium an der Universität Karlsruhe (TH), Fachrichtung Chemie-Ingenieurwesen

Hauptfächer:
+ Lebensmittelverfahrenstechnik
+ Wassertechnologie

Nebenfächer:
+ Heterogene Katalyse
+ Trocknungstechnik
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Okt. 1992
- Dez. 1993
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Tutorin für die Vorlesung "Grundlagen der Mechanischen Verfahrenstechnik", Institut für Mechanische Verfahrenstechnik
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Nov. 1994
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Abschluß: Diplom-Ingenieur, Note: 1,6
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Promotion
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Jan. 1995
- Mai 2000
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Wissenschaftliche Mitarbeiterin und Promotion am Institut für Chemische Verfahrenstechnik, Universität Karlsruhe (TH)

Thema:
"In situ-Charakterisierung von Vanadiumoxid/Titanoxid-Katalysatoren bei
der partiellen Oxidation von o-Xylol zu Phthalsäureanhydrid"
Forschungsprojekt gefördert von der Deutschen Forschungsgemeinschaft (DFG)

+ Planung und Aufbau einer Laboranlage zur Oxidation organischer Substanzen
+ Herstellung und Charakterisierung von verschiedenen oxidischen Katalysatoren
+ Leitung von vorlesungsbegleitenden Übungen
+ Betreuung von Studenten bei Studien- und Diplomarbeiten
+ Laborbeauftragte der chemischen Einrichtungen
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Mitarbeit beim Brennstoffzellen Forschungsprojekt der Europäischen Gemeinschaft:

"Use
of Solid Oxide Fuel Cells (SOFC) as Chemical Reactor: Non-Faradaic
Electrochemical Modification of the Activity and Selectivity of Partial
Oxidation and CO Hydrogenation Catalysts"
In Zusammenarbeit mit dem Institute of Chemical Engineering and High Temperature Chemical Processes, Patras, Griechenland

Promotionsbegleitende Vorlesungen:

+ Chemie und Technik nichtkonventioneller/ erneuerbarer Brennstoffe
+ Auswahlkriterien für Gas-Feststoff-Reaktoren in Prozeß- und Umwelttechnik
+ Konstruktiver Apparatebau
+ Optimal Experimental Design
+ Modellierung von (Bio-)Prozessen
+ Industriebetriebswirtschaftslehre
+ Verfahrenstechnik und Produktentwicklung
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Berufliche Stationen

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Juli 2000
- März 2001
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Agfa-Gevaert AG Leverkusen
Verfahrens-Ingenieurin in der Abteilung 'Prozesstechnik der Zentralen Ingenieurtechnik'

+ Betreuung der Betriebe zur Emulsion- und Emulgatherstellung bezüglich Prozess- und Verfahrenstechnik
+ Verfahrenstechnische Untersuchungen der Fällungskristallisation
+ Konzeptstudie zu einer Feststoffeinbringung
+ Betreuung einer Membranemulgieranlage im Labor
+ Versuche und Tests im Labor und in der Fertigung
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April 2001
- Aug. 2006 |
Philips Semiconductors Böblingen
(seit 10/2006: NXP Semiconductors Germany)
Prozess-Ingenieurin in der Abteilung 'Metallization and Implant';
Verantwortung für CVD/PVD Prozesse;
Vertretung/Koordination der
Abteilung in technischen Fragen (u.a. Qualitätssicherung,
Prozessverbesserung, Dokumentation)
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Sep. 2006
- heute
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NXP Semiconductors Germany
Prozess-Ingenieurin in der Abteilung 'Backend Operations';
Verantwortung für die Prozesse: Wafer thinning (Grinding, Plasma
Stress Relief, Foil, Defoil) / Backside Metallization / Dicing;
Technische Vertretung aller Backend Prozess Themen bei laufenden und geplanten Projekten (z.B. Einführung neuer Produkte)

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Kenntnisse
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Sprachen
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Spanisch (1. Muttersprache),
Deutsch (2. Muttersprache),
Englisch (sehr gut)

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EDV-Systeme
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Microsoft Windows, Microsoft Office, Lotus Notes, LabView, Origin, SAS (EDA) und weitere prozess- und projektbezogenen Systeme

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Betriebssysteme
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Publikationen, Vorträge, Studien
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siehe Publikationen
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